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氧化铪 溅射靶材

CAS号:71243-80-6
英文名称:HAFNIUM OXIDE
英文同义词:HAFNIUM OXIDE;HAFNIUM(+4)OXIDE;HAFNIUM(IV) OXIDE;Hafnium(IV) oxide sputtering target, 101.4mm (4.0in) dia x 6.35mm (0.25in) thick, 99.95% (metals basis excluding Zr)
中文名称:氧化铪 溅射靶材
中文同义词:氧化铪 溅射靶材;氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THIC;氧化铪(IV)溅射靶, 101.4MM (4.0IN) 直径 X 6.35MM (0.25IN) 厚, 99.95% (METALS BASIS 去除 ZR);氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THICK, 99.95% (METALS BASIS EXCLUDING ZR)
CBNumber:CB8737991
分子式:HfO2
分子量:210.49
MOL File:71243-80-6.mol
氧化铪 溅射靶材化学性质
熔点 : 2810 °C
密度 : 9.68 g/mL at 25 °C(lit.)
form : powder
安全信息
安全说明 : 22-24/25
WGK Germany : 3

氧化铪 溅射靶材 性质、用途与生产工艺
氧化铪 溅射靶材 上下游产品信息
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